Máy quang phổ hấp thụ nguyên tử (AAS) hệ Lò graphite
Model: ZA4700
Hãng sản xuất: Hitachi - Nhật Bản
Xuất xứ: Nhật Bản
Các ưu điểm máy AAS lò Graphite ZA4700:
- ZA4700 là hệ thống quang phổ hấp thụ nguyên tử (AAS) độc lập theo phương pháp Lò graphite.
- Là thiết bị sử dụng phương pháp hiệu chỉnh nền Zeeman phân cực trên phương pháp phân tích Lò Graphite cho khả năng hiệu chỉnh nền trên toàn bộ dải bước sóng, khắc phục hoàn toàn nhược điểm của đèn D2 là chỉ hiệu chỉnh nền trong vùng ánh sáng tử ngoại (từ 190 nm đến khoảng 360 nm).
- Hiệu ứng Zeeman được tạo ra bởi nguồn từ trường của nam châm vĩnh cửu, người sử dụng không cần bảo trì, thay thế hay sửa chữa trong suốt đời thiết bị.
- Hệ thống được trang bị hệ đầu dò kép (Dual Detector) cho phép hiệu chỉnh nền theo thời gian thực mà KHÔNG phải chuyển đổi trục quang học, phép phân tích sẽ có độ ổn định và tái lặp cực tốt.
- Phương pháp trắc quang sử dụng chùm tia kép (double beam) kết hợp hiệu chỉnh nền Zeeman phân cực giúp đường nền ổn định ngay khi bật đèn ca-tốt rỗng mà không mất thời gian đợi ổn định, tuổi thọ đèn ca-tốt cũng được kéo dài hơn, tiết kiệm thời gian và chi phí vận hành.
- Tháp đèn với 8 vị trí đèn ca-tốt rỗng. Định vị, tinh chỉnh và cài đặt dòng điện của đèn tự động.
- Bộ lấy mẫu tự động hiệu suất cao là trang bị tiêu chuẩn tích hợp cho Lò Graphite với khả năng phân phối lên tới 60 mẫu và tính năng tiêm mẫu có gia nhiệt, cô đặc mẫu, pha loãng mẫu. Bộ lấy mẫu cũng được thiết kế vỏ chống bụi và đèn Led để hỗ trợ tối đa người dùng.
- Công nghệ tiêm kép giúp tăng thể tích tiêm mẫu, cho phép cải thiện độ nhạy phân tích trên phương pháp Lò Graphite.
- Tính năng an toàn trên Lò Graphite được trang bị đầy đủ đảm bảo an toàn vận hành cho người sử dụng và phòng thí nghiệm.
- Có chế độ tiết kiệm điện
Thông số kỹ thuật
1. Thông số kỹ thuật máy chính:
- Phương pháp phân tích: Lò graphite.
- Chế độ đo: Hấp thụ nguyên tử.
- Hệ thống quang học: phương pháp hai chùm tia (phương pháp Zeeman phân cực).
1.1 Hệ thống đơn sắc:
- Cách tử nhiễu xạ: kiểu Czerny-Turner, 1800 vạch/mm, bước sóng tối ưu (blazed) tại 200nm.
- Dải bước sóng, cài đặt: từ 190 đến 900 nm, cài đặt đỉnh phổ tự động.
- Chiều dài tiêu cự; độ phân tán: 400 nm; 1.3 nm/mm.
- Độ rộng khe phổ: 4 bước (0.2; 0.4; 1.3; 2.6 nm)
- Đầu dò (detector): 2 đầu dò loại ống nhân quang điện (Photomultiplier).
1.2 Nguồn sáng:
- Số lượng đèn, dòng điện: có thể lắp 8 đèn trên tháp đèn (turret), 2 đèn sáng đồng thời, cường độ dòng điện trung bình từ 1.0 đến 20 mA.
1.3 Chế độ Lò graphite:
- Nguồn từ trường cho hiệu ứng Zeeman: nam châm vĩnh cửu có từ tường 1.0 Tesla.
- Điều khiển nhiệt độ: 50 đến 2,800℃, ngăn quá dòng.
- Chế độ làm sạch ống graphite (cuvet): 50 đến 3,000℃ (sử dụng ống graphite loại Pyro tube C HR, Pyro tube D HR).
- Kiểm soát dòng điện gia nhiệt: Kiểm soát nhiệt độ bằng cảm biến quang học, kiểm soát dòng điện không đổi.
- Kiểm soát tốc độ dòng khí:
- Khí thổi ngoài lò (khí bao bọc): khí Ar; 3L/phút.
- Khí mang: khí Ar; 0, 10, 30, 200 mL/phút (4 bước).
- Kiểm soát an toàn:
- Theo dõi áp suất khí Ar.
- Theo dõi lưu lượng nước làm mát.
- Theo dõi nhiệt độ lò.
2. Bộ lấy mẫu tự động cho Lò graphite:
- Dung lượng mẫu: 60 ống mẫu (loại 1.5 mL), đĩa Micro Plate 96 giếng (tuỳ chọn).
- Phân phối mẫu tự động:
- Phân phối theo từng mẫu.
- Phân phối mẫu liên tục.
- Thể tích tiêm mẫu: 1 đến 100 µL.
- Tốc độ tiêm mẫu: lựa chọn trong 5 bước.
- Dung môi có thể áp dụng: Nước/ Ethanol/ Methanol/ Acetone/ MIBK
- Nhiễm chéo: 10-5 hoặc nhỏ hơn (đối với mẫu chuẩn của dung dịch nước).
- Chức năng tiêm mẫu có gia nhiệt: có.
- Cô đặc mẫu (trong lò): 1 đến 25 lần
- Pha loãng mẫu (trong lò): 1 đến 10 lần
3. Xử lý dữ liệu:
- Máy tính: Hệ điều hành Windows 7 Professional, phiên bản 64 bit.
- Các loại tín hiệu: Zeeman AA, mẫu, tham chiếu và cường độ phát xạ.
- Đường chuẩn:
- Phương pháp mẫu chuẩn: lập đường chuẩn lên tới 10 điểm.
- Chuẩn bị đường chuẩn: Phương pháp bình phương tối thiểu (Least-squaes) và Phương pháp Newton.
- Chức năng xấp xỉ: 3 loại (Chức năng hiệu chỉnh độ nhạy, Phương pháp thêm chuẩn, Phương pháp thêm chuẩn đơn giản)
- Xử lý dữ liệu:
- Chế độ tính toán.
- Xác định chiều cao mặt cắt của chiều rộng đỉnh.
- Loại bỏ/ Khôi phục/ Thay thế kết quả đo.
- Thay đổi số thứ tự của đường chuẩn.
- Xử lý mẫu trắng.
- Hiệu chỉnh điểm 0 của đường chuẩn.
- Hiệu chỉnh đường nền.
- Tính toán thống kê (giá trị trung bình, độ lệch chuẩn tương đối, hệ số xác định).
- Giới hạn phát hiện.
- Cài đặt cửa sổ thời gian đo.
- Chức năng QC (kiểm soát chất lượng):
- Kiểm tra mẫu (Giới hạn phát hiện).
- Kiểm tra mẫu chuẩn (STD).
- Kiểm tra mẫu QC.
- Kiểm tra đường chuẩn.
- Kiểm tra độ thu hồi.
- Lưu trữ Thông số/ Dữ liệu, chức năng Trợ giúp:
- Kết quả đo và tín hiệu đo.
- Thông tin trạng thái/ lỗi của thiết bị.
- Thông báo hướng dẫn ngăn ngừa lỗi.
- Thông tin phân tích.
Cấu hình chuẩn - Phụ kiện
Cấu hình hệ thống AAS bao gồm:
- Máy chính hệ Lò graphite, hiệu chỉnh nền bằng Zeeman model ZA4700.
- Máy làm mát bằng nước tuần hoàn.
- Bộ đèn ca-tốt rỗng cho các nguyên tố, 8 đèn: Cu, As, Pb, Zn, Cd, Cr, Fe, Mn. (hoặc lựa chọn theo ứng dụng phân tích cụ thể của chủ đầu tư);
- Ống Graphite, 10 cái/hộp: 1 hộp.
- Hệ thống cung cấp khí:
- Bình khí Argon tinh khiết và đồng hồ điều áp.
- Bộ phụ kiện và dụng cụ cần thiết lắp đặt vận hành: Dây nối, dây nguồn, ống nối, lọ đựng mẫu, gá lắp đặt,... đảm bảo để thiết bị hoạt động bình thường.
- Phần mềm điều khiển và xử lý số liệu.
- Hệ thống hút khí thải (gia công tại Việt Nam).
- Máy vi tính và máy in (mua nhà cung cấp tại Việt Nam).
- Dịch vụ Hướng dẫn sử dụng và đạo tạo, Bảo hành – Bảo trì.
- Bộ hoá chất vận hành máy (mua nhà cung cấp tại Việt Nam)
