Máy quang phổ phát xạ plasma ICP-OES
Model: EXPEC 6500D
Hãng sản xuất: EXPEC Technology – Trung Quốc
Xuất xứ: Trung Quốc

- Link web hãng: https://en.expec-tech.com/product/icp-oes-6500d-2/?gad_source=1&gad_campaignid=20902240472&gbraid=0AAAAAqlBY-c2v5Z6GM80pzSIwvnywkcZV&gclid=Cj0KCQjwoMXQBhDcARIsAH-eEtvLa8R4LVWWTUFst6Hq1V0DoW7INR2PpgG6yoj_4yInBHnF3ztiE3saAreEEALw_wcB
- VNC. Máy quang phổ phát xạ Plasma ICP-OES model 6500D EXPEC
- EXPEC 6500 ICP-OES brochureEXPEC 6500 - 3Q documentEXPEC 6500 ICP-OES Site Preparation Instruction Manua
- Máy quang phổ phát xạ Plasma EXPEC 6500D sử dụng công nghệ quan sát 2 chiều bằng ngọn đuốc thằng đứng mới được phát triển, có khả năng đo các nguyên tố có hàm lượng khác biệt tương đối lớn trong một nền mẫu phức tạp.
- Nguồn RF trạng thái rắn (all-solid-state RF source) tự kích thích:
- Công suất từ 500 – 1600W có thể điều chỉnh liên tục.
- Tích hợp chế độ chờ công suất thấp iStandby để giảm khí Ar tiêu thụ hơn 50%
- Thiết kế làm mát bằng nước giúp giảm nhiệt nhanh chống và ổn định nguồn điện.
- Hệ thống quan học hai chiều ổn định hiệu quả với cách tử Echelle:
- Hệ thống quan học hai chiều hiệu quả, giảm phản xạ.
- Bộ điều nhiệt của buồng quang giữ ở mức 36 °C không đổi, là nền tảng của thiết bị ổn định.
- Hệ thống làm sạch phân tán dựa trên mô phỏng cơ học chất lỏng, cho phép hệ thống quang học nhanh chống thiết lập môi trường argon tinh khiết cao, từ đó thực hiện phân tích tia cực tím, tiết kiệm thời gian và argon.
- Thiết kế cách nhiệt giữa hệ thống quang và thân máy giúp cân bằng sự trao đổi nhiệt, làm cho hệ thống quang học có khả năng chống chịu tốt hơn đối với ảnh hưởng của sự thay đổi môi trường bên ngoài.
- Cảm biến ECCD mảng diện tích lớn:
- Diện tích 1 inch²: Kích thước điểm ảnh lớn mang lại độ nhạy phản hồi cao. Diện tích tổng thể lớn cho phép thu được dãi quang phổ rộng hơn trong khi vẫn duy trì độ phân giải cao.
- Độ phân giải 1024*1024 pixels, một lần phơi sáng: có khả năng ghi nhận 72 nguyên tố trong khoảng từ 165 nm đến 900 nm, và thu kết quả trong 10 giây.
- Có sự phân cấp rõ ràng của vùng tia cực tiếp sâu, và độ nhạy cao.
- Thiết kế chống tràn với lổ thông hơi phía sau, không cần lo lắng về hiện tượng bảo hoà vạch phổ lên các vạch phổ liền kề.
- Hệ thống làm lạnh TEC được tịch hợp trong cảm biến, tác động trực tiếp trên điểm ảnh: Hiệu quả, độ tin cậy cao và giúp loại bỏ ảnh hưởng của nhiễu nhiệt tốt hơn.
- Công nghệ quan sát hai chiều với ngọn đuốc thẳng đứng
- Ngọn đuốc thẳng đứng giúp giảm tiêu thụ argon, ngăn ngừa sự lắng động muối cao, kéo dài tuổi thọ của đuốc và giảm tiêu hao của vật tư.
- Quan sát theo dọc trục: độ nhạy cao.
- Quan sát theo xuyên tâm: ngăn ngừa nhiễu do nền mẫu. Vị trí của plasma có thể điều chỉnh.Việc ghi nhận các nguyên tố có thể tối ưu theo các vị trí khác nhau của plasma
- Kết hợp cả phương pháp dọc trục và xuyên tâm: có ưu điểm của cả 2 phương pháp
- Công nghệ hiệu chỉnh drif thời gian thực giúp hiệu chỉnh vị trí phổ:
- Chỉ sử dụng vạch phổ C, N và Ar để đánh lửa và việc hiệu chỉnh phổ được hoàn thành tự động mà không cần tiêm mẫu cụ thể
- Công nghệ hiệu chỉnh toàn phổ thời gian thực (FSC) được cấp bằng sáng chế sử dụng vạch đặc trưng của Neon không gây nhiễu để hiệu chỉnh các sai lệch nhỏ của phổ trong thời gian thực, nhờ đó đạt được sự tích phổ tốt hơn nhằm đảm bảo sự ổn định lâu dài
- Tự động điều chỉnh hệ số khuếch đại thông minh:
- Suy giảm tính hiệu thông minh, cho phép sử lý các mẫu có nồng độ từ 1 đến 100 lần một cách dễ dàng: Hệ số suy giảm tự động tăng lên theo nồng độ cao và thấp của các nguyên tố để hình thành phân tích các mẫu có nồng độ gradient cao và thấp trong một lần mà không cần pha loãng nhiều lần. Giúp giảm độ khó của quá trình xử lý mẫu.
- Thiết kế tích hợp thông minh: tín hiệu và nền được thu nhận đồng bộ, thời gian phơi sáng phụ thuộc vào cường độ ánh sáng phổ, thời gian phơi sáng tối ưu của phổ được tính toán tự động, cường độ của ánh sáng được tính toán chuẩn hoá, đường cong làm viẹc được tính toán tích hợp, kiểm soát thời gian tích hợp chính xác đến từng micro giây, dãi động được mở rộng, và tránh được việc pha loãng mẫu được lặp đi lặp lại
- Pha loãng trực tuyến argon: việc pha loãng hiệu quả các mẫu có nồng độ muối cao hơn 10% được thực hiện bằng cách thêm một kênh khí argon để pha loãng, được điều khiển bởi MFC, trước khi sol khí trong buồng nguyên tử hoá đi vào đầu đốt, nhờ đó giúp giảm bớt khó khăn trong việc xử lý mẫu sơ bộ
- Hệ thống bơm mẫu ổn định:
- Bộ điều khiển lưu lượng khối kỹ thuật số đa kênh cung kết khả năng điều khiển chính xác từng kênh argon với độ chính xác điều khiển ở mức 0.01 L/phút, đảm bảo tính ổn định của dữ liệu đo được
- Bơm nhu động 12 rotor 4 kênh độ chính xác cao đảm bảo bơm mẫu ổn định, có thể thêm dung dịch chuẩn nội và dung dịch chuẩn bổ sung theo nhu cầu, thuận lợi cho việc phân tích mẫu phức tạp
- Đầu đốt thân tách rời hoàn toàn, tự định hướng khi lắp đặt; đối với các ứng dụng khác nhau, chỉ cần thay thế ống trung tâm, giúp giảm đáng kể chi phí.
Thông số kỹ thuật
- Hiệu năng phân tích:
- Tốc độ phân tích khoảng 200 vạch phổ mỗi phút
- Lượng mẫu tiêu hao: 2 ml
- Khoảng động tuyến tính xác định của vạch phổ: ≥10v5 (xác định bằng cách sử dụng Mn 257.6 nm; hệ số tương quan ≥0.999)
- Độ chính xác: xác định hổn hợp đung dịch chuẩn 1 pmm hoặc 10 ppm, độ lệch chuẩn RSD từ 10 lần xác định lặp lại ≤0.5%
- Độ ổn định: xác định dung dịch chuẩn hỗn hợp đa nguyên tố 1 ppm hoặc 10 ppm; độ lệch chuẩn tương đối (RSD) cho độ ổn định dài hạn trong khoảng thời gian 8 giờ: ≤1%
- Giới hạn phát hiện: (đơn vị: ug/L, phần tử phù hợp với thông số kỹ thuật của JJG768-2005)
- Zn213.856: 0.5 ug/L
- Ni231.604: 1 ug/L
- Mn257.610: 0.5 ug/L
- Cr267.716: 1 ug/L
- Cu324.754: 1 ug/L
- Ba455.403: 0.1 ug/L
- Thiết bị có thể thực hiện phân tích định tính, bán định lượng và định lượng bất kỳ vạch phổ nào của nguyên tố phân tích; thiết bị cũng hỗ trợ các phương pháp bao gồm phương pháp chuẩn nội, phương pháp thêm chuẩn và hiệu chỉnh nguyên tố gây nhiễu
- Thời gian làm nóng sơ bộ: thời gian từ giai đoạn chờ đến khi plasma được kích hoạt ngắn hơn 5 phút.
- Hệ thống quang:
- Buồng quang học tự động giữ nhiệt độ ổn định 36 °C
- Hệ thống quang phổ hai chiều sử dụng cách tử Echelle
- Tiêu cự: 380mm
- Cách tử: 87L/mm, góc vát 64°, Zerodur
- Khe hẹp: 100μm×50 μm
- Độ phân giải quang học: ≤7 pm @200 nm
- Buồng quang học: sai số gia công chính xác cao nhỏ hơn 0.5mm
- Cảm biến: CCD mảng BSI chống tràn mức megapixel, đạt tiêu chuẩn nghiên cứu khoa học
- Nguồn cấp điện RF:
- Nguồn cấp điện tần số vô tuyến bán dẫn tự kích thích
- Công suất đầu ra có thể điều chỉnh liên tục
- Tần số: 27.12MHz
- Công suất: Tối đa 1.6kW Độ ổn định nguồn: ≤ 0.1%
- Độ ổn định tần số: ≤ 0.01%
- Kích thước WxDxH: 930 x 700 x 560 mm
- Trọng lượng tổng thể: Khoảng 100kg
- Lượng tiêu thụ Argon: Khoảng 8 đến 12 L/phút Argon trong điều kiện phân tích bình thường
- Yêu cầu nguồn điện: 220±10% VAC, 50 - 60Hz
- Công suất tiêu thụ tổng thể: <4,5 kW
- EMC: IEC61000-4-2, IEC61000-4-4, IEC61000-4-5
- Nhiệt độ hoạt động: 10 - 30°C
- Nhiệt độ bảo quản: -20 - 70°C
- Độ ẩm hoạt động: 20 - 80 %RH
- Yêu cầu độ tinh khiết Argon: 99.999%
- Áp suất Argon đầu vào: > 0.6Mpa
- Giao diện thiết bị (bao gồm phần mềm phân tích kết nối):
- Có thể kết nối với trạm làm việc xử lý mẫu tự động (trong hệ thống phân hủy, sử dụng chế độ điện nhiệt phân hủy bằng than chì để thực hiện các thao tác phân hủy tự động, đẳng tích và lấy mẫu, hỗ trợ xử lý đồng thời mẫu tại hơn 48 vị trí);
- Được trang bị giao diện hệ thống phân tích để đưa mẫu hữu cơ trực tiếp (cung cấp chức năng làm lạnh mẫu, với nhiệt độ dưới -15°C);
- Được trang bị giao diện mô-đun phân hủy trực tuyến (hỗ trợ các chức năng phân hủy nhiệt điện tự động trực tuyến và kiểm soát nồng độ cũng như làm sạch tự động các đường ống lấy mẫu);
- Được trang bị giao diện hệ thống phân tích trực tuyến để tạo hydrua (hỗ trợ các chức năng bổ sung tự động và kiểm soát nồng độ chất lỏng phản ứng cũng như làm sạch tự động các đường ống lấy mẫu);
- Có thể kết nối với trạm làm việc trao đổi ion để phân tích hóa trị hoặc phân tích làm giàu nồng độ thấp và loại bỏ ma trận cao;
- Có thể kết nối với bộ bơm mẫu tự động để phân tích (hỗ trợ cấu hình hơn 240 vị trí lấy mẫu);
Model: SA-240
- Bộ lấy mẫu tự động SA-240 cho phép vận hành tự động nhiều mẫu mà không cần giám sát. Hơn nữa, máy lấy mẫu tự động có độ lặp lại và độ chính xác tốt để đảm bảo chất lượng dữ liệu thử nghiệm
- Máy lấy mẫu tự động SA-240 lấy mẫu bằng kim và bơm nhu động. Vị trí lấy mẫu của kim được điều khiển bởi động cơ và được giám sát bởi cảm biến quang học và bộ mã hóa quang học, do đó chuyển động chính xác theo hướng X-Y-Z
- Số vị trí mẫu: 240 vị trí ống 15 ml
- Số vị trí chuẩn: 10 ống 50 ml
Cung cấp kèm theo:
- 04 Khay mẫu 60 vị trí
- 01 Khay chuẩn 10 vị trí
- 10 Ống chuẩn 50 ml
- 300 ống mẫu 15 ml
- Nhờ giao diện thao tác đồ họa, phần mềm vận hành trực quan và dễ dàng. Giao diện cung cấp các chức năng phân tích định tính, bán định lượng và định lượng;
- Phần mềm quản lý thư viện phương pháp dựa trên phân loại và phiên bản giúp quản lý, bảo trì và lưu trữ các phương pháp; một số phương pháp chuẩn được tích hợp trong phần mềm có thể nâng cao hiệu quả phân tích;
- Có chức năng thu thập dữ liệu toàn phổ, có thể ghi lại các vạch phổ của tất cả các nguyên tố. Dữ liệu có thể được lưu trữ an toàn, hỗ trợ cả chức năng lưu trữ và truy xuất dữ liệu phân tích để phân tích lại trong tương lai;
- Có thư viện vạch phổ với hơn 50.000 vạch phổ, có thể chọn ít nhất 30 pixel cho mỗi vạch phổ để đo;
- Có chức năng thu thập toàn phổ, có thể thu được toàn bộ phổ từ phần mềm để biết về phổ mẫu và tình trạng nhiễu phổ;
- Phần mềm có nhiều phương pháp hiệu chỉnh nhiễu và chức năng trừ nền thời gian thực, chẳng hạn như phương pháp so sánh chuẩn, phương pháp chuẩn nội bộ, phương pháp hệ số hiệu chỉnh phần tử gây nhiễu (IEC) và phương pháp cộng/đường cong chuẩn, làm phong phú thêm nhiều phương tiện phân tích và nghiên cứu cho người dùng;
- Phần mềm có chức năng hiệu chuẩn thiết bị và hỗ trợ các chức năng bao gồm hiệu chỉnh ống hình chữ nhật và tối ưu hóa nguồn sáng, thuận lợi cho việc bảo trì thường xuyên của người dùng. Phần mềm cũng cung cấp khả năng giám sát trực quan trạng thái hoạt động của thiết bị;
- Phần mềm cung cấp chức năng bảo vệ bằng mật khẩu đăng nhập, thiết lập quyền vận hành nhiều cấp độ, quản lý an ninh mạng và lưu trữ vĩnh viễn các bản ghi lịch sử;
- Phần mềm có mô-đun quan sát trực quan ngọn lửa ống hình chữ nhật;
- Phần mềm có cả phiên bản tiếng Anh và tiếng Trung;
- Phần mềm có chức năng dịch vụ từ xa dựa trên mạng và có trợ lý dịch vụ từ xa tích hợp sẵn
- để chẩn đoán từ xa; Bộ phận Dịch vụ Công nghệ Kết nối Dữ liệu Mạng 4G thực hiện chẩn đoán và bảo trì từ xa các thiết bị;
- Thiết kế phần mềm hoàn toàn tuân thủ quy định 21 CFR Phần 11 về chữ ký điện tử; phần mềm cung cấp quyền quản trị ba cấp và chức năng theo dõi kiểm toán, phù hợp với các yêu cầu quy định, chẳng hạn như chứng nhận 3Q;
- Nó có thể tích hợp các hoạt động phần mềm của nền tảng thiết bị phân tích tự động và nền tảng thiết bị phân tích trực tuyến
Cấu hình chuẩn - Phụ kiện
- Máy quang phổ phát xạ quang học plasma ghép cảm ứng - Loại D tiêu chuẩn
- Máy làm mát tuần hoàn bằng nước
- Hệ thống lấy mẫu thẳng đứng chịu được tần số cao
- Bộ lấy mẫu tự động
- Tài liệu hướng dẫn sử dụng tiếng Anh + tiếng Việt
Hệ thống hút khí thải/ Gia công tại Việt Nam
- Phù hợp với hệ thống máy quang phổ
- Vât liệu làm chụp hút khí thải: thép không rỉ 304
- Quạt chống ăn mòn hóa học.
- Bao gồm quạt hút, ống nối.
Máy tính – máy in
(Mua nhà cung cấp tại Việt Nam)
Cấu hình tối thiểu máy tính:
- Ram: 8Gb
- Ổ cứng: SSD 256 GB
- Màn hình ≥ 19.5 inch
- Cung cấp kèm theo: Chuột, bàn phím
Cấu hình tối thiểu máy in:
- Kiểu in: In Laser đen trắng
- Khổ in: A4
Bình khí Argon (Ar) tinh khiết + Đồng hồ điều áp
Mua Nhà cung cấp Messer hoặc tương đương tại Việt Nam
- Độ tinh khiết: 99.999%
- Thể tích bình: 40 lít
- Van điều áp cho Ar:
- Áp suất vào: 0 - 200 bar
- Áp suất ra: 0 - 10 bar
Dung dịch chuẩn đơn 1000ppm các nguyên tố: Ag, Al, B, Ba, Ca, Cd, Cr, Cu, Fe, Mg, Mn, Mo, Na, Ni, P, Pb, S, Si, Sn, Ti, V, Zn
Hãng: Merck/ Đức hoặc tương đương








