Bộ nhiệt phân Pyrolysis CDS 5200HPR hãng CDS Analytical – Mỹ 

Bộ nhiệt phân Pyrolysis CDS 5200HPR

Model: CDS 5200 HPR

Hãng sản xuất: CDS Analytical - Mỹ

Xuất xứ: Mỹ

• Link tham khảo:https://www.cdsanalytical.com/pyrolysis-hpr'

Tính năng kỹ thuật:

• Bộ nhiệt phân Pyrolysis CDS 5200HPR  cho phép người dùng nghiên cứu cả nhiệt độ và áp suất cao trong môi trường vi mô, kết quả được đưa trực tiếp đến GC/MS. Thiết bị được xây dựng trên nền tảng 5200 với bộ điều chỉnh áp suất và lớp xúc tác được gia nhiệt. Các mẫu có thể được nhiệt phân ở mức tối đa 500 PSI (3400 kPa), được đưa qua lớp xúc tác có thể lựa chọn của người dùng và thu vào bẫy tích hợp.
• Bộ nhiệt phân Pyrolysis CDS 5200HPR có dây tóc được làm nóng bằng điện trở CDS: Cuộn dây được đốt nóng bằng điện trở CDS là cách linh hoạt nhất để nhiệt phân mẫu của bạn với lượng nhiệt thấp nhất và tốc độ tăng nhiệt độ nhanh nhất.
• Nhiệt phân trong môi trường khắc nghiệt: CDS HPR cho phép bạn thực hiện nhiệt phân ở áp suất cao 500 PSI.
• Lò phản ứng xúc tác có thể chọn của người dùng: Hệ thống CDS HPR đi kèm với hệ thống lò phản ứng cho phép nghiên cứu xúc tác ở nhiệt độ tối đa 800 °C. Lò phản ứng có thể được thông qua vòng quay của van.
• Hiển thị áp suất và nhiệt độ:Không còn phải dự đoán áp suất mẫu, và không còn làm hỏng ống nhiệt phâ Áp suất và nhiệt độ được kiểm soát và hiển thị chính xác
• Điều chỉnh áp suất mạnh mẽ: Bộ điều chỉnh áp suất ngược là bộ điều chỉnh mạnh mẽ nhất có sẵn trên thị trường. Nó đáng tin cậy xử lý các cài đặt phức tạp nhất.
• Mô-đun hơi tùy chọn: Mô-đun hơi tùy chọn cho phép người dùng thực hiện nhiệt phân với hơi nước dưới dạng khí phản ứng bằng áp suất cao. Tùy chọn CDS đầu tiên nâng cao trong khả năng nhiệt phân .

• Thời gian có thể lập trình: 0 – 999.9 phút
• Bẫy (Trap): có, Tenax TA chuẩn, Cryotrap có sẵn.
• Khoảng nhiệt độ: lên đến 1400^oC
• Độ chính xác nhiệt độ: 1^oC
• Tốc độ gia nhiệt:
• 01°C/ms đến 20°C/ms
• 01°C/sec đến 999.9°C/sec
• 01°C/min đến 999.9°C/min
• Đầu làm sạch: có, người dùng lựa chọn
• Đầu sấy: có, người dùng lựa chọn
• Áp suất tối đa của hệ thống: 500 PSI (3.4 MPa)
• Nhiệt độ tối đa của lò phản ứng: 800^oC
• Thể tích xúc tác (Catalyst Volume): 6 mm X 75 mm (tổng thể tích 2 ml)
• Loại tiếp xúc (Interface Type): Low Thermal Mass
• Nhiệt độ tiếp xúc (Interface Temperature): Lên đến 350^oC
• Tốc độ gia nhiệt tiếp xúc (Interface Heating Rate): 1°C/ phút đến 100°C/phút
• Kết nối GC: ống chuyển được gia nhiệt lên đến 350^oC
• Trọng lượng: 25 kg
• Kích thước (W x H x D): 280 mm X 670 mm X 480 mm