Máy sắc ký lỏng siêu cao áp UHPLC kết nối máy MSMS SCIEX (1240 bar/ 17.985 PSI)
Model: ExionLC 2.0+
Hãng sản xuất: SCIEX – Mỹ
Xuất xứ: Mỹ/ Singapore/Liên Hiệp Anh (UK)/Canada
1. Giới thiệu chung:
- SCIEX là hãng sản xuất các thiết bị phân tích khối phổ công nghệ 3 tứ cực (triple quad), bẫy ion (Qtrap), tứ cực thời gian bay (Q-TOF) hàng đầu thế giới, được sử dụng rộng rãi trong phân tích thông thường và nghiên cứu trong nhiều lĩnh vực như: Thực phẩm, môi trường, hàng tiêu dùng, pháp y, công nghê sinh học, dược phẩm, chẩn đoán y khoa… Các thiết bị hãng SCIEX được tin tưởng sử dụng trên thế giới nhờ hiệu quả sử dụng, độ ổn định, độ bền cao và kho dữ liệu về ứng dụng đầy đủ cho các lĩnh vực cũng như đội ngũ chuyên gia ứng dụng nhanh chóng đáp ứng các tiêu chuẩn mới.
- Hệ thống LC-MS/MS của hãng SCIEX có kho dữ liệu phương pháp iMethod, vMethod được xây dựng sẵn có thể đặt hàng tuỳ theo nhu cầu sử dụng của mỗi phòng xét nghiệm trong hầu hết các lĩnh vực.
Tính năng kỹ thuật máy HPLC ExionLC 2.0:
- Hệ thống UHPLC ExionLC 2.0+ được điều khiển đồng bộ qua phần mềm SCIEX OS điều khiển hệ thống MSMS hãng SCIEX
- Hệ thống ExionLC 2.0+ được xây dựng dựa trên cùng một di sản đổi mới giống như tất cả các sản phẩm của SCIEX. Hệ thống mang lại độ chính xác cao và mạnh mẽ, đáng mong đợi cho các ứng dụng đầy thách thức đối với việc phân tích sắc ký lỏng. ExionLC 2.0+ là một hệ UHPLC được cấu hình đầy đủ, được thiết kế để cung cấp tốc độ lên đến 5 mL/phút ở 17.985 psi một cách dễ dàng. Từ phát triển phương pháp đến các dự án thông thường, hệ thống ExionLC 2.0+ sẽ đáp ứng nhu cầu của bạn.
- Hệ thống ExionLC 2.0+ mang lại khả năng tái lặp, độ tin cậy và độ nhiễm chéo đáp ứng theo yêu cầu của các phòng thí nghiệm phân tích, sau nhiều lần tiêm, hết bảng mẫu này đến bảng mẫu khác. Hệ thống cung cấp một bộ khử khí bốn kênh tích hợp và van lựa chọn dung môi theo tiêu chuẩn. Sản phẩm toàn diện để giải quyết các nhu cầu của các phòng thí nghiệm, với các hệ thống bơm nhị phân/ binary ExionLC 2.0+ (1240 bar/ 17.985 PSI), và các tùy chọn bao gồm van chuyển, đầu dò quang học.
- Hệ thống ExionLC 2.0+ với các dòng máy khối phổ hãng
Thông số kỹ thuật
2. Thông số kỹ thuật:
2.1 Bơm dung môi nhị phân
- Áp suất tối đa: 1.240 bar (17.985 PSI)
- Loại bơm: Bơm pít-tông kép nối tiếp
- Tích hợp bộ khử khí: 4 kênh
- Phạm vi cài đặt tốc độ dòng: 0,001 đến 5 mL/phút (0-1240 bar)
- Độ đúng tốc độ dòng: <1% tại 1 mL/phút hoặc 10 uL (tùy vào cái nào lớn hơn)
- Độ chính xác của tốc độ dòng: <0,1% RSD hoặc 0,05 phút SD tùy vào cái nào lớn hơn (dựa trên thời gian lưu ở nhiệt độ phòng không đổi)
- Dạng gradient: Đẳng dòng, nhị phân (binary)
- Phạm vi cài đặt tỷ lệ trộn: 0-100% với gia số 0,1%
- Độ đúng nồng độ gradient: ± 0,35% (trong điều kiện nhất định)
- Độ chính xác gradient: < 0,15% hoặc 0,01 phút SD tùy vào cái nào lớn hơn
- Lựa chọn dung môi: Van lựa chọn dung môi tích hợp (tối đa 4 dung môi, kết hợp hai loại A1 hoặc A2 và B1 hoặc B2)
- Chức năng giới hạn áp suất: Giới hạn trên và dưới
- Vật liệu tiếp xúc với dung môi: 316L, PEEK, ruby, zirconium oxide, sapphire, MP35N, DLC, Vespel, PE
- Rửa seal piston: Rửa seal tự động
2.2 Bộ tiêm mẫu tự động
- Phương pháp tiêm: Các tùy chọn tiêm linh hoạt bao gồm microliter pickup plus, partial loop và full loop
- Phạm vi cài đặt thể tích tiêm: 0,1 - 50 µL
- Số vị trí mẫu mẫu:
- Với lọ/vial 1,5 mL: tiêu chuẩn 96 (khay 2x48, 108 với khay lọ tùy chọn)
- Với khay microtiter 96 giếng: 192
- Với khay microtiter 384 giếng: 768
- Phát hiện: thiếu vial/đĩa giếng
- Thể tích tiêm chính xác:
- Tiêm Microliter pickup >5 µL: <1,0% RSD
- Partial loop >5 µL: <0,5% RSD
- Full loop: < 0,3 % RSD
- Độ nhiễm chéo: < 0,0015% (hệ thống tiêu chuẩn, chế độ tiêm partical loop)
- Rửa kim: Có thể lập trình (rửa giữa các lần tiêm, rửa giữa các lọ)
- Dung dịch rửa: Tối đa 2 dung dịch rửa tiêu chuẩn, có thể lập trình (rửa giữa các lần tiêm, rửa giữa các lọ).
Lên đến 8 dung môi rửa với tùy chọn thêm hệ thống rửa
- Áp suất tối đa cho phép 17.895 PSI/ 1240 bar
- Thời gian chu kỳ tiêm: tối thiểu 7 giây (cùng lọ); Tối thiểu 14 giây (các lọ khác nhau)
- Hệ thống làm mát mẫu: Hệ thống làm mát trực tiếp
- Cài đặt phạm vi làm mát: 4 đến 40 °C
- Vật liệu tiếp xúc dung môi: Tefzel (ETFE), thủy tinh, Teflon (PTFE), Kel-F (PCTFE), thép không gỉ, PEEK, Vespel
- Phạm vi pH: 2-12
2.3 Lò cột (Column oven)
- Kiểm soát nhiệt độ: Peltier với quạt tuần hoàn không khí cưỡng bức
- Phạm vi kiểm soát nhiệt độ: 5–85 °C
- Độ chính xác nhiệt độ: ± 0,2 °C
- Độ ổn định nhiệt độ: ± 0,1 °C
- Số lượng cột: Tối đa 4 cột 30 cm, 8 cột 12,5 cm (cột với đường kính trong tối đa 4,6mm)
Cấu hình chuẩn - Phụ kiện
3. Cung cấp bao gồm:
- Hệ thống sắc ký lỏng siêu capo áp UHPLC hiệu năng cao
- Bơm dung môi siêu cao áp
- Bộ tiêm mẫu tự động
- Hệ thống rửa của bộ lấy mẫu tự động
- Lò cột
- Bộ phụ kiện lắp bặt
- Tài liệu hướng dẫn sử dụng tiếng Anh và tiếng Việt
