máy AAS HITACHI ZA4000 model hiệu chỉnh nền Zeeman

(1) Thiết kế hệ tandem nối tiếp trên cùng đường truyền quang của ngọn lửa và lò Graphite; điều khiển tự động qua phần mềm:

Hệ thống tích hợp cả 2 phương pháp Ngọn lửa và lò Graphite được lắp đặt sẵn nối tiếp nhau. Chuyển đổi giữa 2 chế độ dễ dàng hoàn toàn bằng phần mềm, không cần chuyển đổi bằng động cơ nên không cần lắp đặt bằng tay hay canh chỉnh hệ thống.

(2) Hệ thống quang 2 chùm tia, đầu dò kép và trừ nền bằng bằng Zeeman cho cả chế độ ngọn lửa, lò graphite và hydride:

Hệ thống sử dụng kỹ thuật trừ nền bằng Zeeman và đầu dò kép có khả năng vận hành chế độ quang học 2 chùm tia và trừ nền trên cả thang sóng (190nm-900 nm) cho cả chế độ lò graphite, ngọn lửa và hydride. –> Điều này giúp tín hiệu ổn định, chính xác và độ lặp lại tốt hơn, đặc biệt vùng bước sóng dài so với chế độ trừ nền bằng đèn D2.

Hình trên thể hiện hiệu năng kỹ thuật hiệu chỉnh nền Zeeman so với hiệu chỉnh đền D2

(3) Phương pháp sử dụng hệ đầu dò kép (Dual Detector) kết hợp hiệu chỉnh nền Zeeman cho phép đo có độ chính xác cao:

Với thiết kế đầu dò kép với hiệu chỉnh nền bằng Zeeman, tín hiệu mẫu (sample) và tính hiệu so sánh (reference) sử dụng chung đường truyền quang cho đến trước khi vào đầu dò. Bằng cách này, hệ thống có khả năng loại từ các tín hiệu nhiễu từ đèn, từ ngọn lửa và từ đường truyền quang. ZA4000 có thời gian làm ấm đèn ngắn và tính hiệu rất ổn định. Có khả năng phân tích ngay cả với độ hấp thu <0.001Abs.

(4) Cải thiện khả năng hoạt động nhờ công tắc hỗ trợ người dùng:

Các công tắc điều khiển được trang bị tiêu chuẩn trên thân máy chính. Phân tích thủ công có thể được thực hiện bằng thao tác ở mặt trước của thiết bị.

(5) Bộ bơm mẫu tự động Autosampler cho lò graphite có nắp chống bụi:

Có nắp chống bụi cho lò graphite và autosampler để ngăn chặn sự xâm nhập của bụi bẩn trong phòng thí nghiệm.

(6) Đèn LED chiếu sáng Lò graphite:

Đèn LED được tích hợp để chiếu sáng phần Lò graphite hỗ trợ cho quá trình điều chỉnh vị trí của vòi lấy mẫu tự động hoặc thay thế cuvet, đồng thời tạo điều kiện thuận lợi cho công việc bảo trì.

(7) Công nghệ tiêm kép (Twin injection technology):

Ngăn chặn mẫu trong cuvette không bị nổ bong bóng để độ đúng, độ chính xác và độ lặp lại của phép đo được tăng lên và làm tăng cường độ nhạy bởi thể tích tiêm mẫu lớn. Độ nhạy có thể được tăng lên dễ dàng bởi thể tích tiêm mẫu lớn. Có 2 lỗ tiêm mẫu trên cuvette. Với cách tiêm mẫu thông qua 2 lỗ, diện tích tiếp xúc giữa mẫu và cuvette được tăng lên nên hiệu quả truyền nhiệt đến mẫu tốt hơn. Do đó, quá trình sấy được rút ngắn hơn, cho phép phân tích mẫu với thể tích lớn.

(9) Chức năng tự động phát hiện bắn mẫu:

Mẫu bị văng lên thành do nhiệt độ tăng quá nhanh trong quá trình làm khô mẫu. Sự bắn mẫu được theo dõi trong quá trình đo và nhãn “P” được gắn vào kết quả đo được khi nghi ngờ có sự bắn mẫu mẫu trong quá trình đo.

(10) Kiểm tra hệ thống khi phân tích siêu vết:

Phần mềm tích hợp chức năng kiểm tra nhiễm bẩn của chế độ phân tích lò. Chỉ cần nhấp chuột và biểu tượng có sẵn, hệ thống sẽ tự động chạy, kiểm tra nhiễm bẩn và đưa ra kết quả để xác định cuvet cuvet có bị nhiễm bẩn hay không, đảm bảo việc phân tích được chính xác.

(11) Hiệu chỉnh nền bằng từ trường Zeeman trên hệ thống Hoá hơi lạnh Hydrid:

Hệ thống sử dụng kỹ thuật trừ nền Zeeman cho ống thạch anh gia nhiệt của bộ tạo hydride. Đường truyền quang được hiệu chỉnh độ trôi của đèn và tín hiệu nền cùng đi qua cell do tại cùng vị trí theo trục ngang; do đó tín hiệu đo được có đường nền ổn định và nhiễu thấp.

(12) Cài đặt tự động các điều kiện phân tích:

Hệ thống được trang bị tháp đèn 8 vị trí, cho phép gắn tới 8 đèn ca-tốt rỗng. Việc định vị đèn, tinh chỉnh và cài đặt dòng điện của đèn đều được thực hiện tự động đối với nguyên tố cần đo. Các đỉnh phổ có thể được xác định chính xác nhờ chức năng tìm kiếm xung động phổ cực nhỏ (micro-drive spectrum). Cấu hình quang phổ được hiển thị trên màn hình cùng với các thông tin cần thiết như các vạch phổ lân cận.

(14) Thân thiện với môi trường:

Nước làm mát và điện năng được tiết kiệm trong thời gian chờ của máy. Hệ thống đóng van nước, tắt đèn cathod, tắt động cơ của bộ đưa mẫu tự động auto sampler khi thiết bị không sử dụng trong thời gian nhất định

(15) Phần mềm điều khiển trực quan – dễ sử dụng – đáp ứng CRF211:

Quý khách có nhu cầu tư vấn, vui lòng liên hệ:

CÔNG TY TNHH THƯƠNG MẠI – DỊCH VỤ – KỸ THUẬT VIỆT NGUYỄN
Địa chỉ	VPHCM: số N36, đường số 11, P. Tân Thới Nhất, Q.12, Tp. Hồ Chí Minh VPĐN: Số 10 Lỗ Giáng 5, phường Hòa Xuân, quận Cẩm Lệ, Tp. Đà Nẵng VPHN: Tầng 1, toà nhà INTRACOM, 33 Cầu Diễn, P. Phúc Diễn, Q. Bắc Từ Liêm, Tp.Hà Nội
Hotline	PHÒNG SẢN PHẨM CHUYÊN SÂU & PHÁT TRIỂN THỊ TRƯỜNG 0817 6633 00 (Mr. Hiếu) – E: hieu@vietnguyenco.vn
Email	info@vietnguyenco.vn
Website	https://www.vietcalib.vn\| https://www.vietnguyenco.vn

	ZA4000	ZA4300	ZA4700	ZA4800
Kỹ thuật phân tích nhanh tuần tự ngọn lửa (rapid sequential flame type)				●
Kỹ thuật phân tích ngọn lửa (Flame Analysis)	●	●
Kỹ thuật phân tích lò Graphite (Graphite Furnace Analysis)			●

Những ưu điểm máy AAS HITACHI ZA4000 model hiệu chỉnh nền từ trường Zeeman